Gør som tusindvis af andre bogelskere
Tilmeld dig nyhedsbrevet og få gode tilbud og inspiration til din næste læsning.
Ved tilmelding accepterer du vores persondatapolitik.Du kan altid afmelde dig igen.
Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
- Indbinding:
- Paperback
- Sideantal:
- 139
- Udgivet:
- 23. maj 2013
- Udgave:
- 11993
- Størrelse:
- 229x152x7 mm.
- Vægt:
- 215 g.
-
BLACK NOVEMBER
Gratis fragt
Leveringstid:
8-11 hverdage
Forventet levering: 2. december 2024
Beskrivelse af Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
Semiconductor equipment modeling has in recent years become a field of great interest, because it offers the potential to support development and optimization of manufacturing equipment and hence reduce the cost and improve the quality of the reactors.
Brugerbedømmelser af Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
Giv din bedømmelse
For at bedømme denne bog, skal du være logget ind.Andre købte også..
Find lignende bøger
Bogen Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films findes i følgende kategorier:
Du kan altid afmelde dig igen.
© 2024 Bogreolen.dk Esromgade 15, 3. | 2200 København N | Danmark | CVR: DK43351621
