Gør som tusindvis af andre bogelskere
Tilmeld dig nyhedsbrevet og få gode tilbud og inspiration til din næste læsning.
Ved tilmelding accepterer du vores persondatapolitik.Du kan altid afmelde dig igen.
Novel Reactor Design and Method for Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of Micro and Nano SiO2-x Films in Photovoltaic Applications
- Indbinding:
- Paperback
- Sideantal:
- 242
- Udgivet:
- 1. januar 2022
- Størrelse:
- 148x14x210 mm.
- Vægt:
- 319 g.
-
BLACK NOVEMBER
Leveringstid:
2-3 uger
Forventet levering: 23. november 2024
Brugerbedømmelser af Novel Reactor Design and Method for Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of Micro and Nano SiO2-x Films in Photovoltaic Applications
Giv din bedømmelse
For at bedømme denne bog, skal du være logget ind.Andre købte også..
Find lignende bøger
Bogen Novel Reactor Design and Method for Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of Micro and Nano SiO2-x Films in Photovoltaic Applications findes i følgende kategorier: