Gør som tusindvis af andre bogelskere
Tilmeld dig nyhedsbrevet og få gode tilbud og inspiration til din næste læsning.
Ved tilmelding accepterer du vores persondatapolitik.Du kan altid afmelde dig igen.
Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus
- Indbinding:
- Hardback
- Sideantal:
- 144
- Udgivet:
- 1. januar 2012
- Størrelse:
- 162x234x14 mm.
- Vægt:
- 352 g.
-
BLACK NOVEMBER
Gratis fragt
Leveringstid:
Ukendt - mangler pt.
Beskrivelse af Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus
Discusses the study of simulating the growth of a thin film by chemical vapour deposition (CVD) processes. This title presents underlying hierarchy of models for low-temperature and low-pressure plasma in order to discuss the processes that can be used to implant or deposit thin layers of important materials.
Brugerbedømmelser af Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus
Giv din bedømmelse
For at bedømme denne bog, skal du være logget ind.Andre købte også..
Find lignende bøger
Bogen Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus findes i følgende kategorier:
Du kan altid afmelde dig igen.
© 2024 Bogreolen.dk Esromgade 15, 3. | 2200 København N | Danmark | CVR: DK43351621
